Verta 383 milijonų JAV dolerių!„Intel“ gauna savo antrąją ASML aukšto NA EUV litografijos aparatą
Remiantis „Intel“ rugpjūčio 1 -osios pajamų konferencijos pokalbio protokolu, „Intel“ generalinis direktorius Pat Gelsinger pareiškė, kad bendrovė gauna antrąją ASML „High NA“ EUV įrangą, kurios vertė 350 milijonų eurų (383 mln. USD).
Praėjusių metų gruodį „Intel“ pradėjo gauti savo pirmuosius didelio masto didelio masto įrenginius, kuriems diegti prireiks kelių mėnesių ir tikimasi, kad jie palaikys naujos kartos galingesnius kompiuterių lustus.
Antrasis „High NA“ įrenginys ruošiasi patekti į mūsų Oregono gamyklą “, - konferencijos metu sakė Kissingeris ir pridūrė, kad„ Intel “technologijos investicija“ rodo gerus ankstyvuosius ženklus.
Tuo metu, kai „Intel“ patyrė reikšmingą nuosmukį dėl susirūpinimo dėl jo perspektyvų paversti nuostolius pelnu, šis pareiškimas nesukėlė žmonių dėmesio.
ASML yra didžiausias kompiuterių mikroschemų gamintojų įrangos tiekėjas ir atsisako komentuoti konkrečius klientų pirkimus.
ASML vadovai liepą pareiškė, kad įmonė pradėjo gabenti antrą aukštą NA įrenginį bevardžiui klientui ir šiais metais įrašys tik pirmojo įrenginio (ir galbūt antrojo) pardavimo pajamas.
Sėkmingas Aukštos NA EUV įrangos pristatymas yra labai svarbus, kad ASML ateityje taptų didžiausia technologijų kompanija Europoje, tačiau vis dar kyla abejonių, kada klientai ją priims.
ASML gavo užsakymus dėl daugiau nei dešimt aukštų NA įrenginių iš pirmaujančių lustų gamintojų, tokių kaip TSMC, „Samsung Electronics“, „Intel“, „SK Hynix“ ir „Micron“.
„Intel“ planuoja iki 2027 m. Naudoti aukštą NA EUV technologiją komercinei gamybai. TSMC, gaminanti lustus tokioms įmonėms kaip „Nvidia“ ir „Apple“, šiais metais gaus aukštą NA EUV įrenginį, tačiau neatskleidė, kada ji bus naudojama gamybai.
ASML generalinis direktorius Christophe Fouquet liepą pareiškė, kad dramų lustų gamintojai (t. Y. „Samsung“, „SK Hynix“ ar „Micron“) gali pradėti naudoti aukštą NA EUV įrangą 2025 arba 2026 m.
Praėjusių metų gruodį „Intel“ pradėjo gauti savo pirmuosius didelio masto didelio masto įrenginius, kuriems diegti prireiks kelių mėnesių ir tikimasi, kad jie palaikys naujos kartos galingesnius kompiuterių lustus.
Antrasis „High NA“ įrenginys ruošiasi patekti į mūsų Oregono gamyklą “, - konferencijos metu sakė Kissingeris ir pridūrė, kad„ Intel “technologijos investicija“ rodo gerus ankstyvuosius ženklus.
Tuo metu, kai „Intel“ patyrė reikšmingą nuosmukį dėl susirūpinimo dėl jo perspektyvų paversti nuostolius pelnu, šis pareiškimas nesukėlė žmonių dėmesio.
ASML yra didžiausias kompiuterių mikroschemų gamintojų įrangos tiekėjas ir atsisako komentuoti konkrečius klientų pirkimus.
ASML vadovai liepą pareiškė, kad įmonė pradėjo gabenti antrą aukštą NA įrenginį bevardžiui klientui ir šiais metais įrašys tik pirmojo įrenginio (ir galbūt antrojo) pardavimo pajamas.
Sėkmingas Aukštos NA EUV įrangos pristatymas yra labai svarbus, kad ASML ateityje taptų didžiausia technologijų kompanija Europoje, tačiau vis dar kyla abejonių, kada klientai ją priims.
ASML gavo užsakymus dėl daugiau nei dešimt aukštų NA įrenginių iš pirmaujančių lustų gamintojų, tokių kaip TSMC, „Samsung Electronics“, „Intel“, „SK Hynix“ ir „Micron“.
„Intel“ planuoja iki 2027 m. Naudoti aukštą NA EUV technologiją komercinei gamybai. TSMC, gaminanti lustus tokioms įmonėms kaip „Nvidia“ ir „Apple“, šiais metais gaus aukštą NA EUV įrenginį, tačiau neatskleidė, kada ji bus naudojama gamybai.
ASML generalinis direktorius Christophe Fouquet liepą pareiškė, kad dramų lustų gamintojai (t. Y. „Samsung“, „SK Hynix“ ar „Micron“) gali pradėti naudoti aukštą NA EUV įrangą 2025 arba 2026 m.